Hinweis: Inhaltsstoffe, die auf der Liste eingeschränkter Chemikalien stehen
EC/CAS
55965-84-9
Name der Chemikalie
Mixture of 5-chloro-2-methyl-2H- isothiazol-3-one (EINECS 247-500-7) and 2-methyl-2H-isothiazol-3-one (EINECS 220-239-6)
Konzentration
N/A
EC/CAS
247-500-7
Name der Chemikalie
Mixture of 5-Chloro-2-methyl-isothiazol-3(2H)-one and 2-methylisothiazol-3(2H)-one
Konzentration
N/A
EC/CAS
220-239-6
Name der Chemikalie
Mixture of 5-Chloro-2-methyl-isothiazol-3(2H)-one and 2-methylisothiazol-3(2H)-one 2-Methyl-2H-isothiazol-3-one
Konzentration
N/A
Allgemeine Information
Überarbeitet am
2019-10-25
Produktidentifikator
RHEOSOL-WIPE Wischglanz
· Verwendung des Stoffes / des Gemisches
Wischpflege zum Aufpolieren mit Wachsen und Polymeren
Symbole im Sicherheitsdatenblatt
Unternehmensinformationen
Unternehmen
NW-Chemie GmbH
E-Mail-Addresse
info@rheosol.de
GHS-Informationen
Signalwort
Warnung
Hazard Codes
Gefahrenhinweise (CLP)
H317, H319
Gefahrenhinweise
Code
Hinweis
H317
May cause an allergic skin reaction
Abschnitt 2
2.1 Einstufung des Stoffs oder Gemischs
Verordnung (EG) Nr. 1272/2008
Gefahrenkategorien
Schwere Augenschädigung/Augenreizung: Augenreiz. 2 Sensibilisierung der Atemwege/Haut: Sens. Haut 1
Gefahrenhinweise
Verursacht schwere Augenreizung. Kann allergische Hautreaktionen verursachen. H317 Kann allergische Hautreaktionen verursachen. H319 Verursacht schwere Augenreizung.
2.2. Kennzeichnungselemente
Verordnung (EG) Nr. 1272/2008
Gefahrbestimmende Komponenten zur Etikettierung
Kolophonium Gemisch aus: 5-Chlor-2-methyl-2H-isothiazol-3-on [EG-Nr. 247-500-7] und 2-Methyl-2H-isothiazol-3-on [EG-Nr. 220-239-6] (3:1)
Signalwort
Achtung
Sicherheitshinweise
P102 Darf nicht in die Hände von Kindern gelangen. P302+P352 BEI BERÜHRUNG MIT DER HAUT: Mit viel Wasser waschen. P321 Besondere Behandlung (siehe Hinweise auf diesem Kennzeichnungsetikett). P333+P313 Bei Hautreizung oder -ausschlag: Ärztlichen Rat einholen/ärztliche Hilfe hinzuziehen.
Ergänzende Gefahrenhinweise
Kennzeichnung gemäß Verordnung (EG) Nr. 1272/2008 [CLP]
